Altair Hw Feko v2021

Altair Hw Feko 新版功能

2021版本的亮点

Feko在2021版中最值得注意的扩展和改进。

Feko的主要功能

•CADFEKO和POSTFEKO中的应用程序宏库扩展了更多按功能分组的脚本。

图1：POSTFEKO中的应用程序宏库菜单。

•增强的表面建模选项，包括：

◦MLFMM支持用于对RAM材料建模的厚涂层。

◦可以包括金属表面粗糙度的影响(例如，由于蚀刻工艺所致)。

◦SAR可以根据表面阻抗来计算。 这提供了一种非常快速的计算方法。

图2：新的表面建模选项可实现快速SAR计算，考虑金属表面粗糙度影响并模拟用于RAM应用的厚，高损耗介电涂层。

•已将新天线添加到组件库。

图3：CADFEKO组件库中现在提供了一系列新天线。

•电缆建模扩展：

◦CADFEKO允许请求电缆端口的S参数结果。 ◦现在可以在同一线束中连接MoM / MTL组合的电缆路径。

◦在组合的MoM / MTL电缆解决方案中增加了对非屏蔽电缆横截面的支持。

WinPp中的主要功能

•在PMan中添加了支持，以将雷达结果绘制为热图，沿轴的范围和相对速度以及信号强度作为颜色。

图4：汽车雷达热图的示例。

•在PMan和WinPp API中添加了支持，以支持网络规划时变方案。

•使用广泛的客户度量和Altair改进了主导路径模型(DPM)

超级研究。现在，测量的平均差异仅为2 dB，标准偏差为6 dB。

•合并了GDA库，用于室内和城市数据库的几何转换。这样可以转换更多格式，例如.gml。

newFASANT中的主要功能

•newFASANT用户指南现已作为统一指南提供，可以从Lncher实用程序以PDF或HTML格式进行访问。

Feko 2021发行说明

Feko最显着的扩展和改进按组件列出。

CADFEKO

产品特点

•引入了新的电缆端口类型，以支持电缆建模的多端口S参数请求。

•扩展了面涂层以支持厚的单层涂层，以模拟辐吸收剂

材料(RAM)。

•新增了对在定义金属介质时指定表面粗糙度(均方根的米值)的支持。

•扩展的近场请求以支持“指定点”定义方法，该方法允许将场点定义为任意点的列表。点可以手动输入，可以使用点输入添加，也可以从文件导入。

•添加了对缩放到活动示意图(电缆线束示意图或网络示意图)上所选端口的支持。在模型树中选择一个或多个端口，从右键单击上下文菜单中选择“缩放到所选内容”。

•升级了CAD导入库，以提供对最新CAD格式的访问，并受益于最新的错误修复和能改进。